חגורת סיליקון שטוחה להדפה אלקטרו-כימית רציפה 0–40ShA

חגורת סיליקון שטוחה להגבהה אלקטרוליטית רציפה 0–40ShA

• תפיסה לא מזיקה: במהלך ההגבהה האלקטרוליטית, חומרים (כגון מסגרות פלדה לאלקטרוניקה מדויקת או דפי מתכת דקים במיוחד) הם פריכים ביותר. הקשיות הנמוכה ביותר מבטיחה שהחגורה תוכל "להתחבר" לחומר בלחיצה עדינה, ותמנע שריטות על פני השטח או עיוותים הנובעים מכוח תפיסה מופרז.

• ביצוע איטום מעולה: בסביבות נוזליות, שטח הסיליקון הרך מתאים טוב יותר לצורות לא סדירות, ומספק דרגת איטום מסוימת המונעת מהפתרון להגבהה לחדור לאזורים שאינם צריכים להיגבה.

• אינרטיות כימית גבוהה: יוצרה מחומרי סיליקון טהורים מאוד, והיא יכולה לסבול חשיפה ממושכת לפתרונות להגבהה (כגון сульפט נחושת, ציאניד וניקל) ללא נפיחות או ליחוף של זרבים עקב תגובות כימיות.

• תנגדות לטמפרטורה: מאחר שתמפרטורות במאגרי גלvanיקה רציפים הן לרוב גבוהות, חגורי הסיליקון שומרים על הגמישות שלהם בטווח של 60-°C עד 200+°C ולא הופכים לקשיחים עקב חשיפה לחום.

• חיכוך גבוה: גם בתנאים רטובים או טבולים, מקדם החיכוך הגבוה על פני השטח של הסיליקון מונע החלקה של החומר, ומבטיח סינכרון מדויק של מחזור הגלvanיקה.

גיליון נתוני חגורה שטוחה מסיליקון לגלvanיקה רציפה 0–40 ShA: